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設備制造

輝納涂層HINa-Carbon系列PVD涂層設備是一款提供高品質、工業級的類金剛石(DLC)薄膜涂層設備,集增強型磁控濺射與離子束等多種技術為一體,采用輝納涂層自主研發的獨特工藝和設計,HiNa-Carbon涂層設備所提供的涂層產品可應用于自動化零部件、汽車零部件、紡織零部件及刀具等領域。輝納涂層提供的HiNa-Carbon涂層設備本身具有良好的工藝穩定性,也可根據客戶需求量身定制相關工藝,以滿足客戶的市場需求。


HiNa-Carbon 標準設備的基本參數


涂層設備總體尺寸(毫米)

2400(寬)x2400(深)x2000(高)

設備功率

50(千瓦),380(伏)三相

壓縮空氣和冷卻水

0.46~0.60兆帕,1.5立方米/每分鐘

靶源冷卻25°C,腔體冷卻35°C

真空抽氣系統

機械選片泵1臺

分子泵1臺

200立方米/小時

2500升/秒

無負載系統極限真空 1.0x10-4帕

真空測量系統

低真空/電阻規/2路

高真空/離子規/1路

鍍膜離子源和電源(電源可根據客戶需求自選)

磁控濺射源1套

離子束源2套     磁控濺射電源1套

離子束電源2套

偏壓電源1套

靶源尺寸664x85毫米

陽極層離子束

直流電源

高壓直流脈沖電源

靶功率<10千瓦

有效工作電壓1500伏

電源功率10千瓦,占空比0~90%,頻率40千赫茲

工藝氣體

獨立2路,質量流量控制器MFC(可根據客戶需要增加獨立氣路)

工件轉架

2套、帶12個直徑120毫米可獨立轉動的行星轉塔,可連同被鍍工件整體裝卸,轉速~10轉分鐘,轉架尺寸直徑730毫米,承載重量350公斤

鍍膜機控制系統

PLC控制系統+工業PC/PLC

系統具備全自動,手動和維護3種操作模式

所以所有運行參數記錄于電腦之中供分析查閱

開放式軟件界面,用戶可自行開發工藝

涂層工藝

隨機附送應用于汽車零部件和工具上的類金剛石(DLC)涂層工藝和輔助工藝




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